लौह आधारित क्लॉस गार्ड उत्प्रेरक

यह औद्योगिक लौह आधारित क्लॉस उत्प्रेरक चुनौतीपूर्ण परिस्थितियों में काम करने वाली सल्फर रिकवरी इकाइयों (एसआरयू) के लिए इंजीनियर किया गया है, जहां उत्प्रेरक सुरक्षा, ऑक्सीजन सहनशीलता और स्थिर सल्फर रूपांतरण महत्वपूर्ण परिचालन आवश्यकताएं हैं।

प्राथमिक सक्रिय सामग्री के रूप में Fe2O3 के साथ संसेचित एक सक्रिय एल्यूमिना वाहक का उपयोग करते हुए, यह फॉर्मूलेशन लक्षित डीऑक्सीजनेशन सुरक्षा के साथ मानक क्लॉस उत्प्रेरक गतिविधि को जोड़ता है। यह ट्रेस ऑक्सीजन प्रवेश के कारण होने वाले डाउनस्ट्रीम उत्प्रेरक सल्फेशन को कम करने के लिए एक सक्रिय रूपांतरण उत्प्रेरक और एक बलिदान गार्ड परत के रूप में एक साथ कार्य करता है।

हवा के रिसाव, फ़ीड गैस के उतार-चढ़ाव, या एसिड गैस परिवर्तनशीलता के माध्यम से क्लॉस इकाई में प्रवेश करने वाली ऑक्सीजन सक्रिय उत्प्रेरक सतहों पर सल्फेट गठन को तेज करती है। सल्फेट जमाव आंतरिक छिद्रों को अवरुद्ध करता है, सक्रिय सतह क्षेत्र को कम करता है, और समय से पहले उत्प्रेरक को निष्क्रिय कर देता है।

यह उत्पाद विशेष रूप से इससे जुड़े परिचालन जोखिमों को कम करने के लिए तैयार किया गया है:

• उतार-चढ़ाव वाले एसिड गैस फ़ीड प्रवाह और परिवर्तनशील H2S सांद्रता
• प्रतिक्रिया फ़ीड में अतिरिक्त SO2 या ट्रेस O2
• वायु-से-अम्लीय-गैस अनुपात अस्थिरता
• लंबे परिचालन चक्र के लिए थर्मल और रासायनिक गिरावट के लिए उच्च प्रतिरोध की आवश्यकता होती है

उत्प्रेरक बिस्तर में सीधे डीऑक्सीजनेशन सुरक्षा को एकीकृत करके, सामग्री डाउनस्ट्रीम पारंपरिक सक्रिय एल्यूमिना या टाइटेनियम डाइऑक्साइड (टीआईओ2) उत्प्रेरक बिस्तरों को नुकसान पहुंचाने से पहले ट्रेस ऑक्सीजन को निष्क्रिय कर देती है।

क्लॉस उत्प्रेरक गतिविधि:उत्प्रेरक प्रतिक्रिया चरणों में मौलिक सल्फर उत्पन्न करने के लिए हाइड्रोजन सल्फाइड (H2S) और सल्फर डाइऑक्साइड (SO2) के बीच प्रतिक्रिया को तेज करता है।

डीऑक्सीजनेशन संरक्षण:प्रक्रिया गैस स्ट्रीम के भीतर ट्रेस ऑक्सीजन का उपभोग या कम करता है, डाउनस्ट्रीम उत्प्रेरक सूची पर सल्फेट संचय को रोकता है।

अपस्ट्रीम बिस्तर की रखवाली:प्रारंभिक थर्मल झटके, कण संचय और रासायनिक जहर को अवशोषित करने के लिए शीर्ष परत गार्ड अनुभाग के रूप में स्थित।

स्टैंडअलोन लोड हो रहा है:जब प्रक्रिया की स्थिति में संयुक्त उत्प्रेरक रूपांतरण और निरंतर ऑक्सीजन संरक्षण की आवश्यकता होती है तो पूरे रिएक्टर में स्वतंत्र रूप से तैनात किया जाता है।

स्तरित लोड हो रहा है:पारंपरिक सक्रिय एल्यूमिना या TiO2-आधारित उत्प्रेरक के ठीक ऊपर एक ऊपरी सुरक्षात्मक परत (आमतौर पर कुल रिएक्टर भरने की मात्रा का 1/2 या 1/3 पर कब्जा) के रूप में स्थापित किया गया है। निचला बिस्तर थोक सल्फर रूपांतरण को संभालता है।

स्थानीयकृत चैनलिंग, बिस्तर के अधिक गर्म होने और अत्यधिक दबाव की बूंदों को रोकने के लिए सुसंगत कण गुण महत्वपूर्ण हैं। उत्पादन लॉट को कठोर भौतिक और रासायनिक सत्यापन से गुजरना पड़ता है, जिसमें शामिल हैं:

• रासायनिक संरचना परख (Fe2O3 सामग्री सत्यापन)
• बीईटी विधि के माध्यम से विशिष्ट सतह क्षेत्र का परीक्षण
• थोक घनत्व और कण आयाम माप
• यांत्रिक क्रशिंग ताकत और घर्षण पहनने के प्रतिरोध का परीक्षण

अनुकूलन क्षमताएँ
प्लांट रेट्रोफिट्स या विशिष्ट रिएक्टर ज्यामिति आवश्यकताओं के लिए, अनुकूलित पैरामीटर उपलब्ध हैं:

• सक्रिय संघटक एकाग्रता
• गोली का आकार और कण आयाम
• थोक घनत्व समायोजन

ऑन-साइट हैंडलिंग:Designed with high mechanical strength (>= 130 एन) और कम घर्षण घिसाव (<= 0.3%) to minimize dust generation during dense loading operations.

भंडारण अनुशंसाएँ:स्थापना से पहले विशिष्ट सतह क्षेत्र और सक्रिय चरण अखंडता को संरक्षित करने के लिए नमी और रासायनिक संदूषकों से दूर सूखी, सीलबंद स्थितियों में संग्रहित किया जाता है।

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